000 01638cam0 22003611ib4500
001 BY-MI0000-br60909
005 20211222123802.0
100 ^a20110401d1990 y0rusy50 ca
101 0 ^arus
102 ^aRU
105 ^ay z 000yy
200 1 ^aМикролитография
^fМоро У
^gПеревод Д.Ю.Зарослова и др.
210 ^aМ.
^cМир
^d1990
215 ^aС. 614-1244
300 ^aПеревод изд.: Semiconductor litography / Wayne M. Moreau (New York; London).
320 ^aБиблиогр. в конце глав
461 0 ^12001
^aМикролитография
^eПринципы, методы, материалы
^eВ 2 ч.
^gПеревод с англ. под ред. Р.Х.Тимерова
^gПредисл. К.А.Валиева
^vЧ. 2
^1210
^d1990-
610 0 ^aМИКРОЭЛЕКТРОНИКА
610 0 ^aЛИТОГРАФИЯ
610 0 ^aМІКРАЭЛЕКТРОНІКА
610 0 ^aЛІТАГРАФІЯ
686 ^a32.844.1
^v2
^2rubbk
686 ^a47.33.31
^v4
^2rugasnti
690 ^a1
^2Base
^9BY-MI0000
^xRSEK
700 1 ^aМоро
^bУ.
702 1 ^aТимеров
^bР. Х.
^4340
702 1 ^aЗарослов
^bД. Ю.
^4730
801 0 ^aBY
^bBY-MI0000
^c20110401
^gpsbo
801 2 ^aBY
^bBY-MI0000
^c20190320
^gpsbo
899 ^aBY-MI0000
^h32.844.1
^iМ 80